Bilgi ve optoelektronik alanlarındaki hızlı gelişme, kimyasal mekanik parlatma (CMP) teknolojisinin sürekli güncellenmesini desteklemiştir.Ekipman ve malzemelere ek olarak, ultra yüksek hassasiyetli yüzeylerin elde edilmesi, yüksek verimli aşındırıcı parçacıkların tasarımına ve endüstriyel üretimine ve ayrıca ilgili parlatma bulamacının hazırlanmasına daha fazla bağlıdır.Yüzey işleme doğruluğu ve verimlilik gereksinimlerinin sürekli iyileştirilmesiyle birlikte, yüksek verimli parlatma malzemelerine yönelik gereksinimler de giderek artıyor.Seryum dioksit, mikroelektronik cihazların ve hassas optik bileşenlerin yüzey hassasiyetinde işlenmesinde yaygın olarak kullanılmaktadır.
Seryum oksit parlatma tozu (VK-Ce01) parlatma tozu, güçlü kesme kabiliyeti, yüksek parlatma verimliliği, yüksek parlatma doğruluğu, iyi parlatma kalitesi, temiz çalışma ortamı, düşük kirlilik, uzun servis ömrü vb. avantajlara sahiptir ve yaygın olarak kullanılmaktadır. optik hassas parlatma ve CMP vb. alanda son derece önemli bir konuma sahiptir.
Seryum oksitin temel özellikleri:
Seryum oksit olarak da bilinen seryum, bir seryum oksittir.Şu anda seryumun değeri +4'tür ve kimyasal formülü CeO2'dir.Saf ürün beyaz ağır toz veya kübik kristaldir ve saf olmayan ürün açık sarı veya hatta pembe ila kırmızımsı kahverengi tozdur (çünkü eser miktarda lantan, praseodim vb. içerir).Oda sıcaklığında ve basınçta seryum, kararlı bir seryum oksittir.Seryum ayrıca kararsız olan ve O2 ile kararlı CeO2 oluşturacak olan +3 değerlik Ce2O3'ü de oluşturabilir.Seryum oksit su, alkali ve asitte az çözünür.Yoğunluk 7.132 g/cm3, erime noktası 2600°C ve kaynama noktası 3500°C'dir.
Seryum oksitin parlatma mekanizması
CeO2 parçacıklarının sertliği yüksek değildir.Aşağıdaki tabloda görüldüğü gibi seryum oksidin sertliği elmas ve alüminyum oksitten çok daha düşük olup, aynı zamanda ferrik okside eşdeğer olan zirkonyum oksit ve silikon oksitten de daha düşüktür.Bu nedenle, silikat camı, kuvars camı vb. gibi silikon oksit bazlı malzemelerin düşük sertliğe sahip seryum ile cilalanması yalnızca mekanik açıdan teknik olarak mümkün değildir.Bununla birlikte, seryum oksit şu anda silikon oksit bazlı malzemelerin ve hatta silikon nitrür malzemelerin parlatılması için tercih edilen parlatma tozudur.Seryum oksit cilalamanın mekanik etkilerinin yanı sıra başka etkilerinin de olduğu görülmektedir.Yaygın olarak kullanılan taşlama ve parlatma malzemesi olan elmasın sertliği, genellikle CeO2 kafesinde oksijen boşluklarına sahiptir, bu da onun fiziksel ve kimyasal özelliklerini değiştirir ve parlatma özellikleri üzerinde belirli bir etkiye sahiptir.Yaygın olarak kullanılan seryum oksit parlatma tozları belirli miktarda diğer nadir toprak oksitleri içerir.Praseodim oksit (Pr6O11) ayrıca cilalamaya uygun yüz merkezli kübik kafes yapısına sahipken, diğer lantanit nadir toprak oksitlerin cilalama özelliği yoktur.CeO2'nin kristal yapısını değiştirmeden belirli bir aralıkta katı bir çözelti oluşturabilmektedir.Yüksek saflıkta nano-seryum oksit parlatma tozu (VK-Ce01) için, seryum oksidin (VK-Ce01) saflığı ne kadar yüksek olursa, özellikle sert cam ve kuvars optik lensler için parlatma yeteneği o kadar yüksek olur ve servis ömrü o kadar uzun olur. uzun zaman.Döngüsel cilalama sırasında yüksek saflıkta seryum oksit cilalama tozunun (VK-Ce01) kullanılması tavsiye edilir.
Seryum oksit parlatma tozunun uygulanması:
Esas olarak cam ürünlerinin parlatılmasında kullanılan seryum oksit parlatma tozu (VK-Ce01), esas olarak aşağıdaki alanlarda kullanılır:
1. Gözlük, cam mercek parlatma;
2. Optik lens, optik cam, lens vb.;
3. Cep telefonu ekran camı, saat yüzeyi (saat kapısı), vb.;
4. LCD monitör her türlü LCD ekranı;
5. Rhinestones, sıcak elmaslar (kartlar, kot pantolondaki elmaslar), aydınlatma topları (büyük salondaki lüks avizeler);
6. Kristal el sanatları;
7. Yeşimin kısmi parlatılması
Mevcut seryum oksit parlatma türevleri:
Seryum oksitin yüzeyi, optik camın parlatılmasını önemli ölçüde iyileştirmek için alüminyumla katkılanmıştır.
UrbanMines Tech'in Teknoloji Araştırma ve Geliştirme Departmanı.Limited, cilalama parçacıklarının birleştirilmesi ve yüzey modifikasyonunun, CMP cilalamanın verimliliğini ve doğruluğunu arttırmaya yönelik ana yöntem ve yaklaşımlar olduğunu öne sürdü.Çünkü parçacık özellikleri, çok bileşenli elemanların birleştirilmesiyle ayarlanabilir ve parlatma bulamacının dispersiyon stabilitesi ve parlatma verimliliği, yüzey modifikasyonu ile geliştirilebilir.TiO2 katkılı CeO2 tozunun hazırlama ve parlatma performansı, parlatma verimliliğini %50'den fazla artırabilir ve aynı zamanda yüzey kusurları da %80 oranında azaltılabilir.CeO2 ZrO2 ve SiO2 2CeO2 kompozit oksitlerin sinerjistik parlatma etkisi;bu nedenle katkılı seryum mikro-nano kompozit oksitlerin hazırlama teknolojisi, yeni parlatma malzemelerinin geliştirilmesi ve parlatma mekanizmasının tartışılması açısından büyük önem taşımaktadır.Katkı miktarının yanı sıra, sentezlenen parçacıklar içindeki katkı maddesinin durumu ve dağılımı da yüzey özelliklerini ve cilalama performansını büyük ölçüde etkilemektedir.
Bunlar arasında cilalama parçacıklarının kaplama yapısına sahip sentezi daha çekicidir.Bu nedenle sentetik yöntem ve koşulların, özellikle basit ve uygun maliyetli yöntemlerin seçimi de çok önemlidir.Ana hammadde olarak hidratlı seryum karbonat kullanılarak, alüminyum katkılı seryum oksit parlatma parçacıkları ıslak katı faz mekanokimyasal yöntemle sentezlendi.Mekanik kuvvetin etkisi altında, büyük hidratlı seryum karbonat parçacıkları ince parçacıklara bölünebilirken, alüminyum nitrat amonyak suyuyla reaksiyona girerek amorf kolloidal parçacıklar oluşturur.Kolloidal parçacıklar seryum karbonat parçacıklarına kolayca bağlanır ve kurutma ve kalsinasyondan sonra seryum oksit yüzeyinde alüminyum katkısı elde edilebilir.Bu yöntem, farklı miktarlarda alüminyum katkılı seryum oksit parçacıklarının sentezlenmesi için kullanılmış ve bunların parlatma performansları karakterize edilmiştir.Seryum oksit parçacıklarının yüzeyine uygun miktarda alüminyum eklendikten sonra yüzey potansiyelinin negatif değeri artacak ve bu da aşındırıcı parçacıklar arasında boşluk oluşmasına neden olacaktır.Aşındırıcı süspansiyon stabilitesinin iyileştirilmesini destekleyen daha güçlü bir elektrostatik itme vardır.Aynı zamanda, aşındırıcı parçacıklar ile pozitif yüklü yumuşak katman arasındaki Coulomb çekimi yoluyla karşılıklı adsorpsiyon da güçlendirilecektir; bu, cilalı camın yüzeyindeki aşındırıcı ve yumuşak katman arasındaki karşılıklı temas için faydalıdır ve teşvik eder. parlatma oranının iyileştirilmesi.